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飛納電鏡新品發(fā)布會(huì)圓滿舉辦

 更新時(shí)間:2017-04-14 點(diǎn)擊量:1760

秉承著諸多飛納電鏡客戶的殷切期盼,近年來持續(xù)擴(kuò)大投入研發(fā),如今已取得重大突破!2017年 4 月 12 日,飛納電鏡于蘇州金雞湖凱賓斯基大酒店舉行盛大的新品發(fā)布會(huì)事宜!

  此次新品發(fā)布會(huì)延續(xù)了飛納電鏡一貫的“多,快,好,省”原則,同時(shí)在目前已有操作簡(jiǎn)單(智能化),分辨率高,信噪比高,整體穩(wěn)定性強(qiáng),對(duì)環(huán)境兼容性大,*防震,后期維護(hù)方便等基礎(chǔ)上,進(jìn)一步創(chuàng)新,發(fā)布了以下三款創(chuàng)新產(chǎn)品。

  ● 高分辨率專業(yè)版 Phenom Pro + SED

  飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom Pro 以其*的背散射成像(BSE)已經(jīng)在廣大用戶群體中收獲了非常良好的口碑,如今又在 BSE 基礎(chǔ)上增添了二次電子成像( SED ),二次電子成像( SED )具有怎樣優(yōu)異的性能?其首先采用更優(yōu)化的真空系統(tǒng)減小殘留空氣對(duì)電子束的散射,從而提高圖像信噪比,同時(shí)可利用更小束斑成像,大幅度提高分辨率。其次采用了更優(yōu)化的燈絲束流控制系統(tǒng),提高了發(fā)射束流的單色性,降低了成像系統(tǒng)的相差,從而更大程度的減小了束斑成像。

 

● 全自動(dòng)顯微平臺(tái) Phenom XL + 可傾斜旋轉(zhuǎn)的優(yōu)中心樣品杯

飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom XL 具有很強(qiáng)的后期可拓展性,其中此次即將發(fā)布的新產(chǎn)品就是針對(duì)Phenom XL 的一個(gè)拓展。該優(yōu)中心樣品杯采用了*的設(shè)計(jì),它包含了一個(gè)可以測(cè)試優(yōu)中心傾斜和旋轉(zhuǎn)的子樣品臺(tái),可以在一分鐘內(nèi)實(shí)現(xiàn)裝卸樣品。優(yōu)中心樣品杯的傾斜和旋轉(zhuǎn)意義重大,可以從不同角度來觀察樣品,比如測(cè)量樣品的深度、高度和厚度特征,檢查鍍層之間或零件之間的連接情況。在能譜元素分析中,傾斜功能也同樣十分有用。不平整樣品可以通過傾斜,使被分析面變得水平,從而提高能譜元素分析的準(zhǔn)確度。

飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom XL 優(yōu)中心樣品杯
 

  ● 全自動(dòng)顯微平臺(tái)Phenom XL + 拉伸臺(tái)
 

  飛納電鏡此次的新品發(fā)布會(huì)上會(huì)呈現(xiàn)的第三個(gè)產(chǎn)品就是拉伸臺(tái),此產(chǎn)品也是飛納臺(tái)式掃描電鏡Phenom XL 一項(xiàng)重大拓展。拉伸臺(tái)是一種動(dòng)態(tài)觀察和分析材料微觀變形形貌及斷裂機(jī)制的手段,在材料科學(xué)前沿研究中發(fā)揮了重要作用。掃描電鏡原位拉伸臺(tái)的zui大特點(diǎn)是,在進(jìn)行應(yīng)力—應(yīng)變力學(xué)定量測(cè)試的同時(shí), 利用掃描電鏡的強(qiáng)大的景深、高空間分辨和分析功能,在微觀層面上對(duì)材料的力學(xué)性能進(jìn)行動(dòng)態(tài)研究。拉伸臺(tái)可以為很多材料做拉伸測(cè)試,如金屬材料(研究韌斷過程、應(yīng)力誘發(fā)相變及塑性變形),高分子材料,陶瓷材料等。飛納臺(tái)式掃描電鏡的原位拉伸臺(tái)能實(shí)現(xiàn) 2N to 1000N 的拉力區(qū)間,拉伸速度可實(shí)現(xiàn) 0.1mm/min 到 15mm/min,滿足幾乎所有領(lǐng)域樣品的原位拉伸觀測(cè)。


飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom XL 拉伸臺(tái)
 

  飛納電鏡一貫秉承的“多,快,好,省”原則
 

  “多”——多人,多用,多功能
 

  “快”——快學(xué),快測(cè),快結(jié)果
 

  “好”——好準(zhǔn),好穩(wěn),好管理
 

  “省”——省錢,省心,省空間
 

  欲了解更多飛納臺(tái)式掃描電鏡產(chǎn)品信息,歡迎掃描下列二維碼關(guān)注飛納電鏡號(hào),或微博搜索“飛納電鏡”,關(guān)注更多飛納電鏡產(chǎn)品發(fā)布會(huì)信息

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